低溫反應浴槽

產品介紹

一、產品簡介：

低溫反應浴槽是采用壓縮機制冷，內置加熱、磁力攪拌、內外循環功能，頂部浴槽開口設計，設有燒瓶固定底座和支架，主要用于實驗室在低溫恒溫條件下對蒸餾反應裝置進行特定溫度下的攪拌反應，特別適用于密閉條件下的有機合成及化學反應。廣泛用于大專院校實驗室、現代化工、生物制藥及化學制藥等領域。

二、結構及原理：

低溫反應浴槽是利用全封閉壓縮機機械制冷，冷卻槽內壁盤有冷卻銅盤管，制冷劑（氟利昂）通過水槽內壁的盤管不斷循環，對槽內冷媒進行冷卻，并通過內置循環泵進行內循環反應，或外接循環管路將冷媒輸送到配套設備夾層或冷凝盤管內，間接為反應器內物料進行降溫、對冷凝管接觸蒸汽進行冷卻、液化。

外循環時，從本產品的下出口管路連接到釜體或冷凝器的下方進口管路，循環液再從上循環口出來通過管路回到本產品的進口，形成一個完整的循環空間。一般可連接雙層反應釜的夾層、旋轉蒸發器、反應釜的冷凝盤管使用。

內循環時，將反應容器放入浴槽內固定，啟動加熱功能，可將冷媒溫度恒定在設定范圍；啟動磁力攪拌功能，將攪拌子放入物料內，可對物料進行磁力攪拌。

三、 產品特點：

1、采用全封閉壓縮機制冷，具有降溫快、噪音低、性能良好、質量可靠等特點。

2、底部設有加熱系統，利用加熱平衡制冷，避免了壓縮機的頻繁啟動，增加了壓縮機的壽命。

3、數顯式溫度控制，PID調節增加了控溫精度，使溫度控制在±0.5℃。

4、與液體接觸部分全部采用不繡鋼，具備防腐蝕、防銹、防低溫液體污染功能。

5、底部帶有磁力攪拌，并帶動槽內磁力攪拌，使溫度充分均勻，并使攪拌磁鐵與攪拌子距離拉近，增加了攪拌力。

四、技術參數：